Zur effektiven Trocknung von Wafern und anderen Substraten
nach Nassprozessen mit Hilfe der Zentrifugalkraft.
Als manuelles Einzelgerät oder als Vollautomat
zur Integrierung in Nassbänke.
Maximaler Durchsatz pro Run:
100 Stück 6″ – Wafer (4 Kassetten)
oder
50 Stück 8″ – Wafer (2 Kassetten)
Maximale Umdrehung: 1000 U/min.
oder
26 Stück 12″ – Wafer (2 Kassetten)
bei maximaler Umdrehung: 800 U/min.
Material: Elektropolierter Edelstahl